https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451911
標題: | Submicron patterns on sapphire substrate produced by dual layer photoresist complimentary lithography | 作者: | Chang, C.-M. Shiao, M.-H. Chiang, D. Yang, C.-T. Huang, M.-J. Cheng, C.-T. Hsueh, W.-J. WEN-JENG HSUEH |
公開日期: | 2013 | 卷: | 284-287 | 起(迄)頁: | 334-341 | 來源出版物: | Applied Mechanics and Materials | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451911 | DOI: | 10.4028/www.scientific.net/AMM.284-287.334 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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