https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451915
標題: | The sub-micron hole array in sapphire produced by inductively-coupled plasma reactive ion etching | 作者: | Shiao, M.-H. Chang, C.-M. Huang, S.-W. Lee, C.-T. Wu, T.-C. Hsueh, W.-J. Ma, K.-J. WEN-JENG HSUEH Hsueh, Wen-Jeng |
公開日期: | 2012 | 卷: | 12 | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 1641-1644 | 來源出版物: | Journal of Nanoscience and Nanotechnology | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451915 | DOI: | 10.1166/jnn.2012.4694 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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