https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/492094
標題: | Plasma-enhanced chemical-vapor deposition oxide prepared at low-flow conditions for course wavelength-division multiplexing optical-waveguide devices | 作者: | Chu, A. K. Lin, J. Y. Wang, M. L. Fan, C. C. Shue, H. S. Chuang, T. H. Chen, S. Y. Chiu, C. H. Lin, S. F. TUNG-HAN CHUANG |
公開日期: | 2003 | 卷: | 32 | 期: | 6 | 起(迄)頁: | 492-495 | 來源出版物: | Journal of Electronic Materials | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/492094 | ISSN: | 0361-5235 | DOI: | 10.1007/s11664-003-0131-1 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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