https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/72462
標題: | Errata: Fully model-based methodology for simultaneous correction of extreme ultraviolet mask shadowing and proximity effects | 作者: | Ng, Philip C.W. Tsai, Kuen-Yu Lee, Yen-Min Wang, Fu-Min Li, Jia-Han JIA-HAN LI |
公開日期: | 2011 | 起(迄)頁: | 29801 | 來源出版物: | Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/244415 | DOI: | 10.1117/1.3576188 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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