https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/74992
標題: | Characteristics of plasma enhanced chemical vapor deposition-grown SiNx films prepared for deep ultraviolet attenuated phase-shifting masks | 作者: | Chen, H. L. Wang, L.A. Hsu, C.W. |
公開日期: | 1998 | 卷: | Vacuum | 期: | 6 | 起(迄)頁: | 3612-3617 | 來源出版物: | The Journal of | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/95603 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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