https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/74999
標題: | Enhanced Extreme Ultraviolet Lithography Mask Inspection Contrast Using Fabry-Perot Type Antireflective Coating | 作者: | Cheng, Hsu-Chun Chen, Hsuen-Li Ko, Tsung-Shine Lai, Lee-Jene Ko, Fu-Hsiang Chu, Tieh-Chi |
公開日期: | 2004 | 期: | 43 | 起(迄)頁: | 3703-3706 | 來源出版物: | Japanese Journal of Applied Physics | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/95610 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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