https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/75027
標題: | Enhancement in the efficiency of light emission from silicon by a thin Al2O3 surface-passivating layer grown by atomic layer deposition at low temperature | 作者: | Chen, M. J. Shih, Y. T. Wu, M. K. Tsai, F. Y. |
公開日期: | 2007 | 卷: | 101 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | Journal of Applied Physics | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/95639 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。