https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/75030
標題: | Nanopatterning with 248 nm photolithography by photostabilizing bilayer photoresists | 作者: | Tsai, F.-Y. Jhuo, S.-J. Lee, J.-T. TsaiFY |
公開日期: | 2007 | 卷: | Vacuum | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 426-429 | 來源出版物: | The Journal of Vacuum Science and Technology B | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/95643 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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