https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/75596
標題: | Reactive diffusion between Si and NbC at 1300 oC | 作者: | Kao, C. R. Woodford, J. Chang, and Y. A. |
公開日期: | 五月-1995 | 卷: | 8 | 期: | 8 | 起(迄)頁: | 447-457 | 來源出版物: | Acta Metallurgica Sinica | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/198804 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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