https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/76029
標題: | Ruthenium oxide metal nanocrystal capacitors with high-kappa dielectric tunneling barriers for nanoscale nonvolatile memory device applications | 作者: | Das, Atanu Maikap, S. Lin, C.-H. Tzeng, P.-J. Tien, T.-C. Wang, T.-Y. Chang, L.-B. Yang, J.-R. JER-REN YANG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 87 | 期: | 10 | 起(迄)頁: | 1821-1827 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/243845 | DOI: | 10.1016/j.mee.2009.10.028 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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