https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/77095
標題: | 金屬陽離子於二氧化矽/水溶液之界面反應-分子層次之探討 | 作者: | 駱尚廉 | 關鍵字: | 金屬陽離子;二氧化矽;界面反應;分子層次;metallic cations;SiO2;interface reactions;molecular level | 公開日期: | 31-七月-2001 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學環境工程學研究所 | 摘要: | 金屬陽離子之傳輸與流佈常受周遭固相介 質之影響,而在固/液界面發生吸附、水解、表 面沈澱等反應。而過去對界面現象之研究已證 實,處於兩相間的交界部份非常薄,最多不過 幾個分子厚;此一事實意味著分子層次的研究 方法,是探討界面反應所必須的工具。因此本 研究以二氧化矽為固相氧化物,探討Al(III)離 子於不同系統pH 值、不同Al(III)濃度下之界 面吸附與水解現象。研究方法除傳統批式實驗 數據、表面錯合吸附模擬外,並加入量子方法 在分子層次對基本熱力學參數之計算,進而定 性並定量描述金屬陽離子在固相表面所表現的 吸附與水解行為。 經CASTEP 量子理論計算後,擷取熱力學 上允許發生之反應型態,並合併這些吸附形式 模擬Al(III)/SiO2(s)系統可得較佳之模擬結果。 |
URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/22057 | 其他識別: | 892211E002077 | Rights: | 國立臺灣大學環境工程學研究所 |
顯示於: | 環境工程學研究所 |
檔案 | 描述 | 大小 | 格式 | |
---|---|---|---|---|
892211E002077.pdf | 430.08 kB | Adobe PDF | 檢視/開啟 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。