https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/80821
標題: | 快速熱機台設備及製程研發
子計畫三:快速熱機台內流場重整與暫態熱傳研究 Investigation of Flow Relaminarization and Transient Heat Transfer in a Rapid Thermal Processor |
作者: | 翁宗賢 | 關鍵字: | 快速熱製程;暫態熱流;熱輻射;混合熱對流;rapid thermal processing;transient flow;thermal radiation;mixed convection | 公開日期: | 31-七月-2002 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學應用力學研究所 | 摘要: | 本計畫探討水平式快速熱處理機台內 的暫態熱流現象,建構熱模擬機台,能以 鹵素燈管快速加熱八吋晶圓,由晶圓背面 觀測紅外線影像,推測溫度分佈。本計畫 並建立數值模式,經由計算以瞭解半導體 快速熱製程中的參數效應,期以提高晶圓 製程中的溫度均勻性。由數值計算探討發 現在晶圓上方加裝鍍金的反射環,能最有 效地補償熱輻射損失;若在反射環選擇區 域鍍金時,則晶圓表面的溫差可控制在攝 氏數度之內。 This project investigated transient heat transfer in a RPT. A thermal model was built which can simulate rapid thermal processing up to 8-inch wafer. Temperature distribution of the wafer can be deduced from infrared images acquired through a backside window. Numerical computations also carried out to explore parametric influences. Results show that a gold platted ring reflector can effectively compensate radiation heat losses. A ring reflector with properly regional platted can reduce temperature variation down to a few degrees. |
URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/21650 | 其他識別: | 902212E002227 | Rights: | 國立臺灣大學應用力學研究所 |
顯示於: | 應用力學研究所 |
檔案 | 描述 | 大小 | 格式 | |
---|---|---|---|---|
902212E002227.pdf | 470.79 kB | Adobe PDF | 檢視/開啟 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。