微機電與奈米系統多功光學顯微量測儀之研製(1/3)

Abstract

顯微技術經過多年之發展與改進，早已成為一系列重要的精密量測方法與 架構。隨著微機電與奈米科技之蓬勃發展，運用顯微技術來發展進一步檢測功能 之儀器更是不勝枚舉。各種顯微鏡系統依其設計架構，各有其應用範圍、量測對 象及解析度、與價位。約略區分，一般常見之顯微系統可分為光學顯微鏡、電子 顯微鏡、各種近場顯微鏡、及其他各種接觸式顯微鏡等。在所有這些顯微系統中， 光學顯微鏡除了觀察方便、容易使用外，又由於其可作非接觸量測、且不須事先 對試件做處理，因此具有不會傷害待測物，不須於特定的環境下做量測之優異特 性，故其應用範疇最為廣泛。 本計畫提出的創新多功光學顯微系統，結合雷射都卜勒干涉技術、Confocal Laser Scan Microscope 、Particle Size Analyzer、Lateral Resolution Enhance、以及本實驗室於前期計劃所發展出來的微光機電元件噴墨製程系統 等，因此不僅能量測動態與靜態的微機電與奈米系統，同時也將嘗試運用駐波 (Standing wave)干涉之方法來突破傳統遠場光學因繞射極限所造成的解析度限 制，以瞭解結合近年來各種特殊光學量測功能與突破繞射極限之多種基礎物理方 法之正面互動關係。整體而言，本計畫執行的長期目標，乃是要求能夠建構出一 套能夠量測微機電與奈米級系統之多功顯微量測系統，並配合本研究團隊發展出 來的微光機電元件噴墨製程系統，提供具微米甚至奈米級之精確且穩定的量測系 統。