奈米壓印微影設備技術-總計畫及子計畫一：奈米壓印之力學分析

Date Issued
2005-07-31
Date
2005-07-31
Author(s)
DOI
932218E002013
URI
Abstract
本計畫運用有限元素法研究熱壓型奈米壓印過 程中，光阻高分子受壓變形的狀況。壓印是假設在玻 璃轉換溫度以上之恒溫進行，而光阻則以橡膠彈性材 料來模擬。文獻中類似研究皆有因網格變形過大而無 法進行較大深度之壓印的問題，本研究採用適應性網 格重建法(adaptive remeshing) 及更新拉格朗日法 (updated Lagrangian)來克服此一問題。藉由數值模 擬，本文探討模仁倒圓角半徑、光阻厚度及光阻與基 板間接觸條件對壓印成型所需壓力之影響，以為相關 設計之參考。
Subjects
奈米壓印
熱壓成型
有限元素法
Publisher
臺北市：國立臺灣大學應用力學研究所
Type
report
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932218E002013.pdf

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