奈米壓印微影設備技術-總計畫及子計畫一:奈米壓印之力學分析
Date Issued
2005-07-31
Date
2005-07-31
Author(s)
DOI
932218E002013
Abstract
本計畫運用有限元素法研究熱壓型奈米壓印過
程中,光阻高分子受壓變形的狀況。壓印是假設在玻
璃轉換溫度以上之恒溫進行,而光阻則以橡膠彈性材
料來模擬。文獻中類似研究皆有因網格變形過大而無
法進行較大深度之壓印的問題,本研究採用適應性網
格重建法(adaptive remeshing) 及更新拉格朗日法
(updated Lagrangian)來克服此一問題。藉由數值模
擬,本文探討模仁倒圓角半徑、光阻厚度及光阻與基
板間接觸條件對壓印成型所需壓力之影響,以為相關
設計之參考。
Subjects
奈米壓印
熱壓成型
有限元素法
Publisher
臺北市:國立臺灣大學應用力學研究所
Type
report
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Name
932218E002013.pdf
Size
362.56 KB
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(MD5):6518d5f6f73b0ea3d180c9486f4815c7