https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/81361
標題: | 子計畫三:奈米壓印之印器與壓印系統 | 作者: | 黃榮山 | 關鍵字: | 奈米壓印;微機電;奈米機電;光阻材料;Nanoimprint;Hot-embossing;Electron beam;Mold | 公開日期: | 31-七月-2005 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學應用力學研究所 | 摘要: | 奈米壓印(Nanoimprint lithography, NIL)是一種低成本且具有高生產力的非傳 統微影技術。奈米印器(即母模)之製造 上,將採用電子束微影技術及電感式耦合 電漿乾蝕刻的製程進行,製造出高深寬比 之母模結構。壓印設備系統上,將採用熱 壓印技術,進行奈米結構之圖形轉移。 The project is aimed at developing the mold fabrication and the imprinting recipe for nano-imprint (NIL). For fabrication of a nano-imprinting mold, the electron beam lithography and ICP(Inductively Coupled Plasma) dry etching will be mainly employed to structure the mold of high aspect ratio. As for the nano-imprinting process, the hot-embossing will be employed, and the molds will be tested to form the nanopatterns, and then replicate the pattern to the polymer on the substrate. |
URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/21752 | 其他識別: | 932218E002015 | Rights: | 國立臺灣大學應用力學研究所 |
顯示於: | 應用力學研究所 |
檔案 | 描述 | 大小 | 格式 | |
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932218E002015.pdf | 669.39 kB | Adobe PDF | 檢視/開啟 |
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