國立臺灣大學電子工程學研究所胡振國2008-07-072018-07-102008-07-072018-07-102008-07-31http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/78802application/pdf250743 bytesapplication/pdfen-US國立臺灣大學電子工程學研究所先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)reporthttp://ntur.lib.ntu.edu.tw/bitstream/246246/78802/1/952221E002358.pdf