顏家鈺臺灣大學:機械工程學研究所張景翔Chang, Ching-HsiangChing-HsiangChang2007-11-282018-06-282007-11-282018-06-282004http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/61168本文藉由刮掉標本表面提出2維的掃描式探針顯微鏡微影。以前的研究已經證明伺服控制器對微影有重要影響,精心設計的控制器可以完成更均勻的微影記號。本篇研究指出當連續微影若干直線時能夠觀察釵h未預料到的影響,試片表面上的材料受到探針的推擠而上昇成犁狀形狀的邊緣,此時當我們試著擴大這個溝渠的寬度時,犁狀記號會變得參差不齊。本篇論文也顯示經由謹慎地操作微影過程,我們的確可能獲得較平緩的微影圖形。此外,我們也引入Mu合成控制器,在設計過程我們可以看到其整體的結果表現,實驗結果符合這些設計規格。This thesis addresses the 2-dimensional scanning probe microscope (SPM) lithography by scratching the sampling surface. The previous research has shown that servo controller has significant effect on the lithography. Carefully designed controller achieves more uniform scratch marks. This research has demonstrated that many unexpected effect can be observed when marking multiple lines. The material on the sample surface piles up on the sides of the plow mark. The plow mark would then become uneven when one tries to widen the ditch. The study also shows that it is possible to achieve more even marking geometry by carefully operate the cutting procedure. A Mu-synthesis controller is also presented to show how the outcome performance can be incorporated at the design stage. The experimental results confirm the design specifications.目錄 摘要………………………………………………………………………I Abstract……………………………………………………………… II 目錄……………………………………………………………………III 圖目錄………………………………………………………………… VI 表目錄……………………………………………………………… XIII 第一章 緒論……………………………………………………………1 1.1 前言……………………………………………………………… 1 1.2 研究動機與目的………………………………………………… 1 1.3 文獻回顧………………………………………………………… 3 1.4 論文架構………………………………………………………… 9 第二章 原子力顯微鏡(AFM)系統……………………………………11 2.1 原子力顯微鏡介紹………………………………………………11 2.2 原子力顯微鏡硬體架構…………………………………………12 2.2.1 AFM作用原理………………………………………………… 12 2.2.2 壓電圓管………………………………………………………14 2.2.3 探針懸臂樑……………………………………………………16 2.2.4 光位移感測器(Position sensitive photo detector, PSPD)…17 2.2.5 回授迴路操作系統……………………………………………19 2.2.6 定力控制………………………………………………………19 2.2.7 定高控制………………………………………………………22 2.3 實驗硬體與軟體設備……………………………………………22 第三章 控制器設計與模擬………………………………………… 27 3.1 系統識別…………………………………………………………28 3.2 PID控制器設計與模擬………………………………………… 30 3.3 Mu控制器設計與模擬……………………………………………31 3.3.1 不確定度的描述方法…………………………………………32 3.3.2 Mu控制器設計與模擬…………………………………………40 3.4 實驗方法…………………………………………………………48 第四章 實驗結果…………………………………………………… 52 4.1 利用PID控制器的微影結果…………………………………… 52 4.1.1 於同一條x軸掃描微影………………………………………52 4.1.2 於相同x軸來回掃描微影……………………………………55 4.2 利用Mu 控制器的微影結果…………………………………… 61 4.2.1 於同一條x軸掃描微影………………………………………61 4.2.2 於相同x軸來回掃描微影……………………………………64 4.3 相異作用力微影結果比較………………………………………68 4.3.1 PID控制器…………………………………………………… 68 4.3.2 Mu控制器………………………………………………………74 4.4 比較與討論兩種控制器…………………………………………81 4.5 比較兩種相異x向的掃描微影路徑…………………………… 81 4.5.1 微影路徑一,舊探針…………………………………………82 4.5.1.1 PID控制器於微影路徑一………………………………… 83 4.5.1.2 Mu控制器於微影路徑一……………………………………84 4.5.2 微影路徑二,舊探針………………………………………… 85 4.5.2.1 PID控制器於微影路徑二………………………………… 86 4.5.2.2 Mu控制器於微影路徑二……………………………………87 4.5.3 微影路徑一,新探針…………………………………………89 4.5.3.1 PID控制器於微影路徑一………………………………… 90 4.5.3.2 Mu控制器於微影路徑一……………………………………91 4.5.4 微影路徑二,新探針…………………………………………92 4.5.4.1 PID控制器於微影路徑二………………………………… 92 4.5.4.2 Mu控制器於微影路徑二……………………………………93 4.6 其他修正實驗結果………………………………………………96 第五章 結論與未來展望……………………………………………101 參考文獻………………………………………………………………104en-US定力控制掃描探針微影術Mu合成控制奈米微影原子力顯微鏡SPM lithographyNanolithographyMu synthesisAFMforce control掃描式探針顯微鏡於奈米微影之Mu合成控制Mu synthesis Control of Scanning Probe Microscope for Nanolithographythesis