2016-06-012024-05-17https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/692909摘要：全球半導體業、電子產業已進入成熟期，技術競爭更顯激烈。台灣自1990 年開起半導體及近年 衍生的電子、光電技術迄今已逾45 年，如何讓台灣半導體業持續站穩為穩固的產業基石，將是未來 十年台灣半導體產業必須重視關鍵技術與關鍵週邊技術的重要時期。半導體尺寸在每個世代中逐漸 縮小，28 nm 製程已進入量產，目前全球各大半導體廠專注於研發18nm 以下的新式製程以期在趨於 成熟的半導體業中仍然能夠縮小尺寸且維持高良率；半導體廠中製程所使用的所有流體都必須滿足 超潔淨的須求，且隨著精密度與安全度要求之提高，不純物的容忍度就越低，而流體純度隨著製程 的微小化，逐漸成為研發新式半導體製程尺寸中關鍵的一環。本計劃將因應此需求，開發半導體製 程液分離與純化之無機膜分離程序，從奈米材料開發著手到自動反覆逆洗式無機膜過濾系統的設計 開發，期能協助我國電子產業能在2018 年之前，建立完成去除10nm 以下微粒之連續式製程液過濾 與純化的自動化系統。