國立臺灣大學工程科學及海洋工程學系暨研究所吳文中2006-07-252018-06-282006-07-252018-06-282005http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/4117本計畫主體在於設計並製作奈米壓印系統平台以及定位子系統。本年度的目 標在初步完成壓印機台的設計與驗證以及多道精密對位系統的設計模擬與驗 證。壓印系統之對位重點有二：其一為晶圓面與母模之平行度，其中將採用氣壓 方式使之自動平行校準;其二為壓印母模與晶圓本身之二軸精密對位，研究將使 用類似於目前掃描步進機的對位控制方式，使用兩段式控制 (dual-stage control)，第一階段使用下層的位移平台配合傳統的對位記號與白光顯微術做微 米等級的粗定位，第二階段的對位系統採用光學干涉儀與影像檢測法並行之方式 配合壓電致動器作奈米等級的精準對位。其中光學干涉儀分為近場模式量測以及 遠場量測模式。遠場量測模式採用干涉術，配合壓印模與晶圓上的光柵尺，以繞 射式光學尺的方式呈現;近場量測模式採用光柵耦合原理，以正負一階光強變化 的曲線作為檢測的依據。而影像檢測法採用對位光柵偏移所造成光學影像偏差的 方式，以CCD 作影像耦合運算，藉由數值模擬計算之方式突破繞射極限。最終 目的為開發一套具有奈米等級多道製程對位能力的奈米壓印系統。application/pdf476150 bytesapplication/pdfzh-TW國立臺灣大學工程科學及海洋工程學系暨研究所奈米壓印疊對技術位移平台繞射式光學尺reporthttp://ntur.lib.ntu.edu.tw/bitstream/246246/4117/1/932218E002014.pdf