2009-08-012024-05-15https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/664441摘要：次世代微影技術中，電子束微影目前被認為是最具潛力發展成為次世代半導體製程設備的技術，為改善電子束微影造成的臨近效應、圖形扭曲，以及補償原有電子束微影載台誤差3～5μm，提高平台的定位度，而設計了具有六個自由度的高精度奈米定位平台。 本計畫改裝JEOL JSM 7000F的電子束微影載台，加入高精度奈米定位平台，油壓電致動器驅動，壓電致動器具有體積小、出力大、剛性佳等優點，然而遲滯效應會造成10%~15%的位移誤差量，為了減低遲滯效應對微影的影響，選擇PID控制器作為閉迴路控制，有良好的控制響應，將遲滯效應消除以便微影。有別於一般的電子束微影採用固定載台，電子束去曝寫的型式，本計畫採用固定電子束，移動載台去曝寫，以不同於傳統軟體補償和路徑補償的方式去修正臨近效應，且可避免圖形扭曲，另外是用於長行成圖形的接合，以及38nm小線寬的達成。電子束微影奈米平台多自由度壓電致動器PID控制遲滯效應Electron-beam lithographynano stagemulti-d-o-fpiezoelectricPID controlhysteresis