指導教授：田維誠臺灣大學：電子工程學研究所鍾威正Chung, Wei-ChengWei-ChengChung2014-11-302018-07-102014-11-302018-07-102014http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/263903本研究利用TSMC 0.35μm 2P4M CMOS-MEMS製程製作電容式微機電超音波換能器（Capacitive Micromachined Ultrasonic Transducers，簡稱CMUT），並將CMUT操作於大於崩潰電壓的模態（稱為崩潰模態）。然而本團隊製作CMUT的良率需要提昇，因此本研究第一部分著重於尋找濕蝕刻製程上影響良率的關鍵步驟，發現烤乾後的晶片可以確保良率，目前製作CMUT的良率到達100%；且CMUT在崩潰模態時必須在水中偏壓高達90V的直流電壓，防水鍍膜強度不足使57%的薄膜損壞，且水中漏電現象明顯使電路板氧化，然而提高防水鍍膜厚度使元件特性下降，因此本研究第二部分將防水薄膜厚度最佳化，以及電路板的防水設計。 本研究利用共軛焦顯微鏡呈現崩潰模態時的表面輪廓，量測出CMUT的崩潰電壓在50~60V區間；也呈現CMUT操作於崩潰模態的特性。由於直流偏壓大於崩潰電壓，因此CMUT的靈敏度變好，且薄膜觸底將使中心頻率變化。本研究利用商用Pulser 5077PR與商用探頭發射超音波，CMUT在崩潰模態的接收效率為傳統薄態的4倍，且中心頻率由2.7MHz轉換到7.9MHz；而CMUT做自發自收時，傳統模態的電壓峰對峰值達2.625V，比例頻寬132%，然而由於致動元件的交流電壓遠大於直流偏壓，元件會操作於深崩潰模態，在崩潰模態的自發自收電壓峰對峰值可達3.427V，但比例頻寬下降至40~45%。In this work, experimental results of Capacitive Micromachined Ultrasonic Transducers (CMUTs) operated in collapse-mode is presented. The device is implemented with the TSMC 0.35μm CMOS-MEMS process. Through the surface profile measured by a confocal microscope, the collapsed voltage is measured at approximately 50 ~ 60V. With a bias voltage over the collapse voltage, the receiving sensitivity of CMUTs is increased 4 times larger and the center frequency is shifted from 2.7MHz to 7.9MHz. Driven by a commercial pulser, the received echo signal using our device in traditional mode is 2.625Vpp and the fractional bandwidth is 132%. Affected by the deep-collapse operation, the largest received echo signal reaches 3.427Vpp and the fractional bandwidth reduced to approximately 40 ~ 45%. The CMUT center frequency shifts from 3.12MHz to 9.12MHz. We also present an improved wet etch process to significantly increase the yield to almost 100%. Depositing thicker sealing membrane material ensures the robustness of CMUTs. Our developed CMUTs operated in DC bias of 90V in a water tank for over half an hour was demonstrated.口試委員審定書 I 致謝 II 摘要 III Abstract IV 論文目錄 V 圖片目錄 VIII 表格目錄 XI Chapter1. 緒論與研究動機 1 1.1 CMUT: 超音波探頭的不同選擇 2 1.1.1 接收頻寬大－Harmonic Imaging 3 1.1.2 標準半導體製程－Forward-looking IVUS 4 1.2 CMUT的操作方式 6 1.2.1 傳統模態 6 1.2.2 崩潰模態 7 1.2.3 零偏壓操作 9 1.2.4 崩潰模態CMUT的應用－Ultrasound-guided HIFU 9 1.3 CMUT的製作方式 11 1.3.1 表面微加工 11 1.3.2 體型微加工 12 1.3.3 CMOS-based製程 13 1.4 研究動機 15 Chapter2. CMUT－操作於崩潰模態 16 2.1 CMUT的參數推導 16 2.1.1 電能－機械能轉換效率 17 2.1.2 崩潰電壓 18 2.1.3 參數探討 19 2.2 元件模擬與討論 21 2.2.1 電極面積設計 21 2.2.2 不同電壓與薄膜觸底面積 22 2.3 元件設計與製作 24 2.3.1 結構設計 25 2.3.2 畫佈局圖 27 2.3.3 Wire-bond 28 2.3.4 防水鍍膜 29 Chapter3. 後製程改良以及高偏壓封裝 30 3.1前言 30 3.2 濕蝕刻製程改良 31 3.2.1 濕蝕刻步驟 31 3.2.2 良率問題以及關鍵步驟 33 3.3高偏壓封裝 36 3.3.1 Bond-wire斷裂與電路板的氧化 36 3.3.2 防水薄膜破裂 37 3.3.3 防水膠以及提高薄膜厚度 39 3.4 附錄－薄膜厚度影響的元件特性 41 Chapter4. 量測方法與探頭測試成果 43 4.1 不同偏壓的表面輪廓 43 4.1.1 顯微鏡下的崩潰現象 43 4.1.2 崩潰電壓的量測 45 4.1.3 量測細節 47 4.2 元件接收超音波：傳統與崩潰 48 4.3 元件自發自收Pulse-echo：傳統與崩潰 51 4.3.1 傳統模態 52 4.3.2 崩潰模態 54 4.4 CMUT在不同偏壓下探討 56 4.5 與前代CMUT比較 59 4.6 牙齒表面成像 60 Chapter5. 結論以及未來展望 62 5.1 元件特性整理與比較 62 5.2 未來工作 63 5.2.1 量測系統 63 5.2.2 IVUS前置階段 66 Reference 685292644 bytesapplication/pdf論文公開時間：2019/08/17論文使用權限：同意有償授權(權利金給回饋學校)互補式金屬氧化物半導體微機電超音波換能器崩潰模態thesishttp://ntur.lib.ntu.edu.tw/bitstream/246246/263903/1/ntu-103-R01943075-1.pdf