國立臺灣大學機械工程學系暨研究所張所鋐2006-07-252018-06-282006-07-252018-06-282003http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/15857在微機電系統(MEMS)上立體微機構 製造是發展重點之一，目前在微機電系統 設計上最常被使用之立體微加工是非等向 性蝕刻(Anisotropy etching)，不過此方法很 困難製作任意形狀的立體微機構。 過去已有研究出很多方法製作立體微 機構，其中之微影加工技術是利用紫外線 光線照在光阻產生變化，使得顯影作用於 光阻劑的局部範圍。這些作用於微米範圍 組合而成立體結構之加工技術稱為立體微 影加工技術。 本研究採用之立體微影加工是由紫外 線聚焦系統及精密定位系統組成。聚焦系 統採用顯微鏡聚焦系統，精密定位系統為 自行研發之奈米精密定位系統。 立體微影加工之主要因素有光阻反應 的波長、紫外線光波長、聚焦面積及光強 度。目標為傳統微機電加工難以達成之三 維微結構加工，未來實現三維次微米及三 維奈米結構。application/pdf203424 bytesapplication/pdfzh-TW國立臺灣大學機械工程學系暨研究所微機電系統立體微影加工技術紫外線光光阻劑顯影顯微鏡光纖奈米精密定位三維微結構reporthttp://ntur.lib.ntu.edu.tw/bitstream/246246/15857/1/912218E002016.pdf