國立臺灣大學應用力學研究所吳光鐘2006-07-262018-06-292006-07-262018-06-292005-07-31http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/21751本計畫運用有限元素法研究熱壓型奈米壓印過 程中，光阻高分子受壓變形的狀況。壓印是假設在玻 璃轉換溫度以上之恒溫進行，而光阻則以橡膠彈性材 料來模擬。文獻中類似研究皆有因網格變形過大而無 法進行較大深度之壓印的問題，本研究採用適應性網 格重建法(adaptive remeshing) 及更新拉格朗日法 (updated Lagrangian)來克服此一問題。藉由數值模 擬，本文探討模仁倒圓角半徑、光阻厚度及光阻與基 板間接觸條件對壓印成型所需壓力之影響，以為相關 設計之參考。application/pdf371262 bytesapplication/pdfzh-TW國立臺灣大學應用力學研究所奈米壓印熱壓成型有限元素法reporthttp://ntur.lib.ntu.edu.tw/bitstream/246246/21751/1/932218E002013.pdf