https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/150859
標題: | Radiation Effects on the Oxide Properties of Silicon MOS Capacitor | 作者: | 胡振國 Lee, G. S. Jeng, M. J. 王維新 李嗣涔 Hwu, Jenn-Gwo Wang, Way-Seen Lee, Si-Chen |
公開日期: | 1986 | 起(迄)頁: | 215-219 | 來源出版物: | Electronic Devices and Materials Symposium | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/154401 |
顯示於: | 電機工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。