https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/155654
標題: | Use of SiO2 nanoparticles as etch mask to generate Si nanorods by reactive ion etch | 作者: | Liang, Eih-Zhe Huang, Chao-Jei Lin, Ching-Fuh |
公開日期: | 2006 | 卷: | Vacuum | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 599-603 | 來源出版物: | The Journal of Vacuum Science and Technology B | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/145964 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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