https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/323260
標題: | Interfacial self-cleaning in atomic layer deposition of HfO 2 gate dielectric on In 0.15 Ga 0.85 As | 作者: | Chang, CH Chiou, YK Chang, YC Lee, KY Lin, TD Wu, TB Hong, M Kwo, J MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2006 | 卷: | 89 | 起(迄)頁: | 242911 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/323260 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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