https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340179
標題: | Atomic-layer-deposited HfO 2 on In 0.53 Ga 0.47 As: Passivation and energy-band parameters | 作者: | Chang, YC Huang, ML Lee, KY Lee, YJ Lin, TD MINGHWEI HONG Kwo, J Lay, TS Liao, CC Cheng, KY |
公開日期: | 2008 | 卷: | 92 | 起(迄)頁: | 072901 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340179 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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