https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/347221
標題: | The application of disturbance response decoupling to the vibration control of an electron beam lithography system | 作者: | Wang, Fu-Cheng Tsao, Yu-Chia Yen, Jia-Yush FU-CHENG WANG JIA-YUSH YEN |
公開日期: | 2009 | 卷: | 48 | 期: | 6 PART 2 | 來源出版物: | Japanese Journal of Applied Physics | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-70249101379&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/347221 |
DOI: | 10.1143/JJAP.48.06FB04 |
顯示於: | 機械工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。