https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/364350
標題: | In situ atomic layer deposition and synchrotron-radiation photoemission study of Al 2 O 3 on pristine n-GaAs (001)-4$\\times$ 6 surface | 作者: | Chang, YH Huang, ML Chang, P Shen, JY Chen, BR Hsu, CL Pi, TW Hong, Ma Kwo, J MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2011 | 卷: | 88 | 期: | 7 | 起(迄)頁: | 1101-1104 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/364350 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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