https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/371837
標題: | $\\backslash$ textit ${$In-situ$}$ MBE and ALD deposited HfO $ _ ${$2$}$ $ on In $ _ ${$0.53$}$ $ Ga $ _ ${$0.47$}$ $ As | 作者: | Lee, WC Lin, CA Huang, ML Kwo, J Chang, YH Chang, P Lin, TD Hong, M MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2012 | 卷: | 57 | 來源出版物: | Bulletin of the American Physical Society | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/371837 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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