https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/428869
標題: | Reactive-Ion Etching of Bismuth Thin Film Using CHF3 | 作者: | Yen-Cheng Ko Ding-Lun Wu Che-Wei Yang Hao-Hsiung Lin HAO-HSIUNG LIN |
公開日期: | 2018 | 來源出版物: | International Electron Devices & Materials Symposium IEDMS2018 | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/428869 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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