https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/429211
標題: | Integration of block copolymer directed self assembly with 193i lithography toward fabrication of nanowire MOSFETs | 作者: | C. Lin P. F. Nealey T.-H. Chang Z. Ma A. K. Raub S. R. J. Brueck E. Han P. Gopalan TZU-HSUAN CHANG |
公開日期: | 2011 | 來源出版物: | Proceedings of SPIE Microlithography | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/429211 |
顯示於: | 電機工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。