https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/445419
標題: | Special issue on basics and applications of plasma technology | 作者: | Wu, J.S. Tii, K. Chu, J.P. Hsu, C.-C. JERRY CHENG-CHE HSU |
公開日期: | 2014 | 卷: | 42 | 期: | 2 | 來源出版物: | IEEE Transactions on Plasma Science | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/445419 | DOI: | 10.1109/TPS.2014.2303771 |
顯示於: | 化學工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。