https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/445767
標題: | Effect of carbon sources on silicon carbon nitride films growth in an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition reactor | 作者: | Wu, J. J. Chen, K. H. Wen, C. Y. Chen, L. C. Guo, X. J. Lo, H. J. Lin, S. T. Yu, Y. C. Wang, C. W. SHIANG-TAI LIN CHENG-YEN WEN LI-CHYONG CHEN |
公開日期: | 2000 | 卷: | 9 | 期: | 3-6 | 起(迄)頁: | 556-561 | 來源出版物: | Diamond and Related Materials | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/445767 | ISSN: | 0925-9635 | DOI: | 10.1016/S0925-9635(99)00218-6 |
顯示於: | 化學工程學系 |
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