https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491721
標題: | Suppression of short channel effects in FinFETs using crystalline ZrO<inf>2</inf> high-K/Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf> buffer layer gate stack for low power device applications | 作者: | Tsai, M.-C. Wang, C.-I. Chen, Y.-C. Chen, Y.-J. Li, K.-S. Chen, M.-C. Chen, M.-J. MIIN-JANG CHEN |
公開日期: | 2018 | 卷: | 33 | 期: | 3 | 來源出版物: | Semiconductor Science and Technology | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491721 | DOI: | 10.1088/1361-6641/aaab01 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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