應用微機電技術在電化學三維微機構加工之研究(2/2)

在微機電系統(MEMS)上立體微機構
製造是發展重點之一，目前在微機電系統
設計上最常被使用之立體微加工是非等向
性蝕刻(Anisotropy etching)，不過此方法很
困難製作任意形狀的立體微機構。
過去已有研究出很多方法製作立體微
機構，其中之微影加工技術是利用紫外線
光線照在光阻產生變化，使得顯影作用於
光阻劑的局部範圍。這些作用於微米範圍
組合而成立體結構之加工技術稱為立體微
影加工技術。
本研究採用之立體微影加工是由紫外
線聚焦系統及精密定位系統組成。聚焦系
統採用顯微鏡聚焦系統，精密定位系統為
自行研發之奈米精密定位系統。
立體微影加工之主要因素有光阻反應
的波長、紫外線光波長、聚焦面積及光強
度。目標為傳統微機電加工難以達成之三
維微結構加工，未來實現三維次微米及三
維奈米結構。