Erratum: Fully model-based methodology for simultaneous correction of extreme ultraviolet mask shadowing and proximity effects (Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS (2011) 10 (013004))

Journal
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Journal Volume
10
Journal Issue
2
Date Issued
2011
Author(s)
Ng P.C.W
Lee Y.-M
Wang F.-M
Chen A.C.
DOI
URI
Type
corrigendum

臺大位居世界頂尖大學之列，為永久珍藏及向國際展現本校豐碩的研究成果及學術能量，圖書館整合機構典藏（NTUR）與學術庫（AH）不同功能平台，成為臺大學術典藏NTU scholars。期能整合研究能量、促進交流合作、保存學術產出、推廣研究成果。

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開放取用是從使用者角度提升資訊取用性的社會運動，應用在學術研究上是透過將研究著作公開供使用者自由取閱，以促進學術傳播及因應期刊訂購費用逐年攀升。同時可加速研究發展、提升研究影響力，NTU Scholars即為本校的開放取用典藏（OA Archive）平台。（點選深入了解OA）

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