https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/155859
標題: | Low temperature chemical vapor deposition growth of -SiC on (100) Si using methylsilane and device characteristics | 作者: | Liu, C. W. Sturm, J. C. LiuCW |
公開日期: | 1997 | 卷: | 82 | 期: | 9 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | Journal of Applied Physics | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/148136 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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