https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/294534
標題: | Feasibility Study of Utilizing HMDSO Film as Bottom Antireflective Coating for 157 nm Lithography | 作者: | C.H. Lin L. A. Wang LON A. WANG |
公開日期: | 一月-2001 | 起(迄)頁: | 372-373 | 來源出版物: | 45th EIPBN | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/294534 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。