https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/341146
標題: | Process strain induced by nickel germanide on (100) Ge substrate | 作者: | CHEE-WEE LIU Peng, C.-Y. YI-HSUAN YANG Lin, C.-M. Yang, Y.-J. Huang, C.-F. CHEE-WEE LIU |
公開日期: | 2008 | 起(迄)頁: | 681-683 | 來源出版物: | International Conference on Solid-State and Integrated Circuits Technology, ICSICT | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-60649088721&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/341146 |
DOI: | 10.1109/ICSICT.2008.4734645 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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