https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/374083
標題: | Electron-beam proximity effect model calibration for fabricating scatterometry calibration samples | 作者: | Yu-Tian Shen Liu, C.-H. Chen, C.-Y. Ng, H.-T. Tsai, K.-Y. Wang, F.-M. Kuan, C.-H. Lee, Y.-M. Cheng, H.-H. Li, J.-H. KUEN-YU TSAI CHIEH-HSIUNG KUAN JIA-HAN LI |
公開日期: | 二月-2012 | 起(迄)頁: | 83242K | 來源出版物: | Advanced Lithography - Proceeding of SPIE | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/374083 | DOI: | 10.1117/12.918109 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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