https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/404516
標題: | Ferroelectric Al:HfO <inf>2</inf> negative capacitance FETs | 作者: | Lee, M.H. Chen, P.-G. Fan, S.-T. Chou, Y.-C. Kuo, C.-Y. Tang, C.-H. Chen, H.-H. Gu, S.-S. Hong, R.-C. Wang, Z.-Y. Chen, S.-Y. Liao, C.-Y. Chen, K.-T. Chang, S.T. Liao, M.-H. Li, K.-S. CHEE-WEE LIU |
公開日期: | 2018 | 起(迄)頁: | 23.3.1-23.3.4 | 來源出版物: | International Electron Devices Meeting | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/404516 | DOI: | 10.1109/IEDM.2017.8268445 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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