https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/432445
標題: | Improvement of oxidation resistance of copper by atomic layer deposition | 作者: | Chang M.L. Cheng T.C. Lin M.C. HSIN-CHIH LIN MIIN-JANG CHEN |
公開日期: | 2012 | 出版社: | Elsevier B.V. | 卷: | 258 | 期: | 24 | 起(迄)頁: | 10128-10134 | 來源出版物: | Applied Surface Science | URI: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84864708585&doi=10.1016%2fj.apsusc.2012.06.090&partnerID=40&md5=0b59896acb6fc05466ada3cb2726867f https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/432445 |
ISSN: | 01694332 | DOI: | 10.1016/j.apsusc.2012.06.090 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。