https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443359
標題: | In situ atomic layer deposition and synchrotron-radiation photoemission study of Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf> on pristine n-GaAs(0 0 1)-4 ? 6 surface | 作者: | Chang, Y.H. Huang, M.L. Chang, P. Shen, J.Y. Chen, B.R. Hsu, C.L. Pi, T.W. Hong, M. Kwo, J. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2011 | 卷: | 88 | 期: | 7 | 起(迄)頁: | 1101-1104 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443359 | DOI: | 10.1016/j.mee.2011.03.064 |
顯示於: | 物理學系 |
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