https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443383
標題: | Effective reduction of interfacial traps in Al2 O 3/GaAs (001) gate stacks using surface engineering and thermal annealing | 作者: | Chang, Y.C. Merckling, C. Penaud, J. Lu, C.Y. Wang, W.-E. Dekoster, J. Meuris, M. Caymax, M. Heyns, M. Kwo, J. Hong, M. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 97 | 期: | 11 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443383 | DOI: | 10.1063/1.3488813 |
顯示於: | 物理學系 |
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