https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443389
標題: | Lattice strain and in situ chemical depth profiling of nanometer-thick molecular beam epitaxy grown Y<inf>2</inf> O<inf>3</inf> epitaxial films on Si (111) | 作者: | Lee, Y.J. Lee, W.C. Huang, M.L. Wu, S.Y. Nieh, C.W. Hong, M. Kwo, J. Hsu, C.-H. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 28 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | C3A17-C3A19 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443389 | DOI: | 10.1116/1.3275724 |
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