https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443480
標題: | High 庰 gate dielectrics Gd<inf>2</inf>O<inf>3</inf>and Y<inf>2</inf>O<inf>3</inf>for silicon | 作者: | Kwo, J. Hong, M. Kortan, A.R. Queeney, K.T. Chabal, Y.J. Mannaerts, J.P. Boone, T. Krajewski, J.J. Sergent, A.M. Rosamilia, J.M. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2000 | 卷: | 77 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 130-132 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443480 | DOI: | 10.1063/1.126899 |
顯示於: | 物理學系 |
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