https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443504
標題: | Epitaxial growth of Bi<inf>2</inf>Te<inf>3</inf>topological insulator thin films by temperature-gradient induced physical vapor deposition (PVD) | 作者: | Lee, H.-Y. Chen, Y.-S. Lin, Y.-C. Wu, J.-K. Lee, Y.-C. Wu, B.-K. Chern, M.-Y. Liang, C.-T. YUAN-HUEI CHANG CHI-TE LIANG MING-YAU CHERN |
公開日期: | 2016 | 卷: | 686 | 起(迄)頁: | 989-997 | 來源出版物: | Journal of Alloys and Compounds | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443504 | DOI: | 10.1016/j.jallcom.2016.06.266 |
顯示於: | 物理學系 |
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