Electron spin resonance study of the effect of applied stress during thermal oxidation of (111)Si on inherent Pb interface defects

Journal
Microelectronic Engineering
Journal Volume
72
Pages
76-80
Date Issued
2004
Author(s)
Pierreux, D.
Stesmans, A.
Jaccodine, R. J.
Delph, T. J.
DOI
URI
Type
journal article

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開放取用是從使用者角度提升資訊取用性的社會運動，應用在學術研究上是透過將研究著作公開供使用者自由取閱，以促進學術傳播及因應期刊訂購費用逐年攀升。同時可加速研究發展、提升研究影響力，NTU Scholars即為本校的開放取用典藏（OA Archive）平台。（點選深入了解OA）

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