https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443539
標題: | Electron spin resonance study of the effect of applied stress during thermal oxidation of (111)Si on inherent Pb interface defects | 作者: | Pierreux, D. Stesmans, A. Jaccodine, R. J. Lin, M. T. Delph, T. J. MINN-TSONG LIN |
公開日期: | 2004 | 卷: | 72 | 起(迄)頁: | 76-80 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443539 | ISSN: | 0167-9317 | DOI: | 10.1016/j.mee.2003.12.019 |
顯示於: | 物理學系 |
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